用于硅太陽(yáng)能電池的激光橢偏儀 緊湊型創(chuàng)新設(shè)備，旨在測(cè)量沉積在紋理硅（單硅和多硅）襯底上的抗反射涂層的厚度和光學(xué)常數(shù)。可以輕松實(shí)現(xiàn)優(yōu)化的入射角（12-90°），以獲得沉積在多晶結(jié)構(gòu)晶圓上的薄膜的大信號(hào)。金字塔結(jié)構(gòu)可以定向以獲得正確的測(cè)量值，同時(shí)將樣品牢固地保持在適當(dāng)?shù)奈恢谩?/p>

• 確定減反射涂層的薄膜厚度和光學(xué)常數(shù)（折射率和消光系數(shù)）
• 用于穩(wěn)定性和自動(dòng)校準(zhǔn)的集成光學(xué)元件
• 微點(diǎn)聚焦光學(xué)元件，用于良好信號(hào)收集。
• 特別改裝的樣品架，適用于 156×156 mm 的樣品池尺寸。
• 在線集成，實(shí)現(xiàn)快速過程控制。
• 符合智能軟件標(biāo)準(zhǔn)。
• 樣品對(duì)準(zhǔn)：用于手動(dòng)傾斜和高度調(diào)整的大信號(hào)檢測(cè)。

• 測(cè)量波長(zhǎng)：632.8 nm（氦-Ne激光）
• 樣品臺(tái)：兼容 156 × 156 mm
• 測(cè)角儀：55° - 90° 手動(dòng)控制